Highlight

Intro - 신소재공학과 조힘찬 교수 연구팀, 12,000 PPI급 초고해상도 발광 나노소재 패턴 제작 신기술 개발
- 발광 나노소재의 본질적인 광촉매 특성을 활용함으로써 나노소재의 높은 발광 효율 유지 가능
- 초간단 공정으로 손쉽게 패턴 형성해 높은 범용성 선보이고, 다양한 발광 나노소재의 디스플레이 및 광전소자 적용을 용이하게 할 것으로 기대 
Principal Investigator Prof. Cho, Himchan 
Date 2023-08-17 

사진 1. KAIST 신소재공학과 조힘찬 교수.png

< 신소재공학과 조힘찬 교수 >

 

디스플레이 패널에 들어가는 수많은 픽셀은 빛을 낼 수 있는 발광 소재들을 고해상도로 패터닝(patterning) 함으로써 얻어진다특히증강현실/가상현실용 근안(near-eye) 디스플레이의 경우 우수한 화질을 얻기 위해서는 기존 디스플레이 이상의 초고해상도 픽셀 패턴이 반드시 필요하다. 

우리 대학 신소재공학과 조힘찬 교수 연구팀(공동저자 강정구 교수 연구팀)이 발광성 나노소재의 높은 발광 효율을 유지하며 초고해상도 패턴을 제작하는 패터닝 기술을 개발했다고 17일 밝혔다. 

높은 색 순도와 발광 효율로 인해 차세대 발광체로 주목받고 있는 양자점(퀀텀닷)이나 페로브스카이트 나노결정과 같은 용액공정용 나노소재들의 경우고유의 우수한 광학적 특성을 유지하면서 균일한 초고해상도 패턴을 제작하는 것이 어렵기 때문에 이를 극복할 수 있는 새로운 소재 및 공정 기술을 개발하는 것이 차세대 디스플레이 구현에 있어서의 필수 요소라고 할 수 있다.

 

그림 1. 제시된 공정을 통해 제작된 다양한 패턴.png

< 그림 1. 제시된 공정을 통해 제작된 다양한 패턴 >

 

조 교수 연구팀은 양자점과 페로브스카이트 나노결정이 가지는 강한 광촉매 특성을 활용하여양자점 또는 페로브스카이트 나노결정에 빛이 조사되었을 때 나노결정 리간드 사이에서 가교(crosslinking) 화학 반응이 쉽게 유도되도록 소재를 설계하였고이를 통해 발광성 나노소재의 고유한 광학적 특성을 완전히 보존할 수 있는 초고해상도 패터닝 기술을 개발했다. 

연구팀은 해당 공정을 통해 560 나노미터(nm) 수준의 패턴 너비를 가지는 초고해상도(12,000 ppi페로브스카이트 나노결정 패턴을 균일하게 제작할 수 있음을 보였다이는 증강현실/가상현실 디스플레이에서 일반적으로 요구되는 해상도(수천 ppi)를 훨씬 상회하는 값이다형성된 발광 나노소재 패턴은 물리적광학적 특성 측면에서 높은 균일도를 보였다. 

또한 연구팀은 정밀한 분석을 통해 개발된 광촉매 패터닝 공정에서의 정확한 반응 메커니즘을 규명하였고이러한 패터닝 메커니즘이 양자점과 페로브스카이트 뿐만 아니라 발광성 고분자에까지 범용적으로 적용될 수 있는 높은 확장성을 가지는 기술이라는 것을 확인하였다더 나아가연구팀은 개발된 광촉매 패터닝 기술이 연속적인 다층 공정 및 발광 다이오드 소자 제작에 적용 가능하다는 것을 증명하여 높은 산업적 활용 가능성을 입증하였다.

 

그림 2. 다이렉트 광촉매 패터닝의 원리 및 공정 개요도.png< 그림 2. 다이렉트 광촉매 패터닝의 원리 및 공정 개요도 >

 

조힘찬 교수는 본 광촉매 패터닝 기술은 간단한 공정을 통해 다양한 발광 나노소재의 우수한 광학적 특성을 그대로 유지하면서도초고해상도 패터닝을 쉽게 가능하게 한다는 점에서 차세대 디스플레이이미지 센서 등 다양한 산업에서 유용하게 활용될 수 있을 것으로 기대하고 있다라고 언급하였다. 

신소재공학과 맹성규 석사과정 및 박선재 박사과정이 공동 제저자로 참여한 이번 연구는 국제 학술지 `사이언스 어드밴시스 (Science Advances)' 8월 9권 33호에 출판됐다. (논문명 : Direct photocatalytic patterning of colloidal emissive nanomaterials). 

 

한편 이번 연구는 한국연구재단 및 삼성전자의 지원을 받아 수행됐다.