Seminar

admin Nov 05, 2023 21:52:21
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Date 2023-11-07 
Time 16:00 
Title Materials in EUV Lithography 

학과 정기 세미나 안내


■ 제 목Materials in EUV Lithography

 

 연 사:  서 환 석 교수 (연세대학교)                   

 

■  일 시:  2023년 11월 7(화) 오후 4시 

 

■  장 소:  응용공학동 1층 영상강의실 

  

■ Host :  이건재 교수 

 

■ Abstract :  

21세기는 AI로 대표되는 4차산업혁명의 시작과 Chip war로 불리는 국가 간의 반도체 확보 경쟁으로 말미암아 반도체 기술의 중요성이 커지고 있다. 반도체는 무어의 법칙을 근간으로 집적도가 향상되어 왔는데, 이를 이끄는 핵심 기술은 광학을 이용한 Photo Lithography 공정이다. Lithography 기술의 해상력은 광원의 파장 (λ), 렌즈의 개구수 (NA), 공정 기술 (k1)로 정의되며, 각각의 한계를 극복하는 기술 개발을 통해 10nm 대의 EUV 기술까지 진화되어 왔다. EUV 기술은 13.5nm 파장을 사용하며, 새로운 광원 개발, 반사형 광학계와 마스크 적용, resist의 재료적 한계라는 기술 장벽을 뛰어넘어 현 세대와 미래 세대를 대표하는 반도체 기술의 축으로 자리잡았다. 본 세미나에서는 EUV 광학계와 마스크를 중심으로 EUV lithography의 특징과 핵심 기술에 대해 설명하고, 미래 준비 상황과 공정 한계 극복을 위해 나아갈 방향을 재료적인 관점에 포커스하여 이야기하고자 한다.